Die InOxSide® EB garantiert eine effiziente p-n-Übergang Isolation und PSG-Entfernung in der Solarzellenproduktion. Mit dem zusätzlichen Emitter etch back Schritt, bietet die InOxSide® EB eine Verbesserung im blauen Spektralbereich, wodurch der Wirkungsgrad der Zellen verbessert sowie die Prozesssicherheit erhöht wird.

Vorteile im Überblick

• PSG Entfernung, p-n-Übergang Isolierung und Emitter Rückätzung in einem einzigen Tool
  - Optimierter Footprint
  - Ideale Prozess- und Workflow-Integration
• Fortgeschrittene Prozessintegration mit dem RENA InDop System bietet eine weitere Steigerung der Effizienz und erhöht die Leistung der Inline-Diffusion auf das Niveau der POCI₃ Diffusion
• Prozessinbetriebnahme durch RENA
• Niedrige Gesamtbetriebskosten
• Stabile und reproduzierbare Prozesse