Der Selective-Emitter ist ein entscheidender Technologie-Schritt zur Leistungssteigerung industriell produzierter Solarzellen. RENA SelectDop LCP ist eine Hochdurchsatzanlage, die eine Reihe präziser Wasserstrahldüsen zur optischen Fokussierung von Laserstrahlen für die lokale n-Dotierung (20 Ohm/sq) nutzt und dabei gleichzeitig die schadenfreie SiN Ablation ermöglicht. Als nachfolgender Prozess ist ein abgestimmter RENA Plating-Schritt mit Ni als Kontaktmaterial oder ein Standard Maskendruck möglich.

Vorteile im Überblick

• Hochdurchsatz-Produktionsmaschine für chemische Laser Prozessierung
• SiN Abtrag ohne thermische Beschädigung des Grundmaterials
• Herstellung eines Selektiven Emitters unter Beibehaltung des Standard Prozessflusses

• Bis zu 1% Wirkungsgradsteigerung