Optimierte Reinigungsprozesse auf Glas- und Foliensubstraten

PVGlassClean - Glas Substrate
PVFlexxClean - Flexible Substrate
Hoch leistungsfähige Reinigungsanlagen mit RENA Prozesstechnik gewährleisten beste Reinigungsergebnisse.

Vorteile im Überblick:

• Substratgrößen bis zu 2200 x 2600mm
• Niedriger Wasserverbrauch
• Niedrige Betriebskosten
• Homogene Reinigung
• Effektive Filtersysteme
• Uptime >98%
• Modularer Aufbau
• Bürstensystem
• Transportsystem mit Seitenführung
• HDF (hydro dynamic flooding) Technologie für effiziente Reinigung