Partikel- und Residuum- Reinigung von allen Oberflächentypen.
Mit der Plattform Höllmüller EVOLUTION bietet RENA die optimierte Reinigung für alle Vorreinigungs- und Endreinigungsschritte an. Wir haben Module für mechanische Reinigungsschritte wie Bürsten und Ultraschall und chemische Reinigungsschritte mit Entfettern, alkalischer und spezieller Reinigungschemie.
Vorteile im Überblick
Leiterplattentechnik
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Frank Baron
Leiterplattentechnik
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Hermann Zatti