Wafer Trocknung

Die neuesten RENA Trocknertypen minimieren Ihre Prozesszeiten und steigern dadurch Ihren Durchsatz. Standardisierte Schnittstellen sorgen für einen optimalen Datenaustausch. 

Trocknung
Trocknungstechnologien für alle Anforderungen der Siliziumwaferreinigung.

Vorteile im Überblick:

  • Carrierless Handling
  • Alle Trocknungsverfahren aus einer Hand je nach Anlagenkonzept
       Marangoni ® Trocknung
       HF/O3 Trocknung
       Heisswasser Trocknung
       Einzel Wafer Schleuder Trocknung
       Carrier Spin Rinse Trocknung
  • Rückstandsfreies Trocknen

ARENA

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KONTAKT

Frank Schienle

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@: Frank Schienle