RENA bietet Ihnen Anlageplattformen zur optimalen Waferreinigung und -trocknung. Dank unserem modularen Anlagenaufbau bieten wir kundenspezifische Lösungen. Variable Ein- und Ausgabeeinheiten sowie Carrier- und Carrierless Handling Systeme ermöglichen kundenspezifische Anlagenoptionen.

RCA Clean
State of the Art Reinigung mit verdichteter Prozessierung und hohem Durchsatz.

Vorteile im Überblick:

• Hervorragende Partikel- und Metallabreinigung
• Zukunftsweisende Abluft- sowie Mediensteuerung und Kontrolle
• Sichere Medienkonditionierung
• Kurze Badwechselzeiten

ACD Advanced Clean Dry
Kompakte Drei-Becken-Anlage mit vielfach erprobter, exklusiver HF/O3 Technologie.

Vorteile im Überblick:

• Integration mehrerer Prozessschritte in drei Becken
• Hervorragernde Partikel- und Metallabreinigung
• HF/O3: Metallabreinigung, Trocknung und Oberflächen-Konditionierung in einem Becken
• Hohe Uptime