Wafer Ätzung

Mit der neuesten Generation der RENA Prozessanlagen erhalten Sie optimale homogene Ergebnisse bei einem geringen Medienverbrauch. Unsere Prozessanlagen verfügen teilweise über eine In-Situ Prozesskontrolle und Carrierless Handling Systeme.

Ätzung
Produktfamilie mit modularem Design für flexible Anlagen zum Ätzen von Silizium-Wafern.

Vorteile im Überblick:

  • Standard Ätzprozesse (HF/HNO3, KOH, NaOH, H3PO4, BOE, DHF, SPM, SOM, etc.)
  • Präzise und schnellste Umsetzzeiten < 1sec.
  • Homogener Ätzabtrag über gesamten 300mm Wafer
  • Vollautomatische Prozesskontrolle

ARENA

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KONTAKT

Frank Schienle

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@: Frank Schienle